膜厚测量仪

• 型 号：ME-210-T
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• 更新时间：2024-09-03
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膜厚测量仪为一种光学系膜厚测量装置，这个装置的特点是可以高精度测量1nm一下的极薄膜，也适合测量玻璃等透明基板上的薄膜。ME-210-T 活用了本公司*的偏光Senor 技术，将不能变为可能，以往的技术是无法测量0.5mm厚的玻璃基板，在这项技术下，可进行极薄膜的高精度测量，举例来说显示器用的ITO膜或配向膜的评估，也可运用ME-210-T轻松达成。

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高速Mapping椭偏仪（适用透明基板）ME-210-T

膜厚测量仪

适用透明基板的高速Mapping椭偏仪 ···可测量透明基板上的光阻膜及配向膜分布

椭偏仪为一种光学系膜厚测量装置，膜厚测量仪这个装置的特点是可以高精度测量1nm一下的极薄膜，也适合测量玻璃等透明基板上的薄膜。

ME-210-T  活用了本公司*的偏光Senor 技术，将不能变为可能，以往的技术是无法测量0.5mm厚的玻璃基板，在这项技术下，可进行极薄膜的高精度测量，举例来说显示器用的ITO膜或配向膜的评估，也可运用ME-210-T  轻松达成。

ME-210-T的高精度膜厚分布资料，定会对先进的薄膜产品的生产有用途。

ME-210-T的特点

1，   高效的测量速度（每分约1000点：）可短时间内取得高密度的面分布数据。

2，   微小领域量测（20un左右）可简单锁定&测量任一微小区域。

3，   可测量透明基板

适用于解析玻璃基板上的极薄膜

的测量实例

涂布膜边缘扩大测量

可阶段性扩大微小领域，然后获得详细的膜厚分布数据

GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布测量

缩小膜厚显示范围，膜厚差距不大的样品，也可以简单评估、比较其分布状况

的设备参数