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  • ME-210-T膜厚测量仪

    更新时间:2024-09-03

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    膜厚测量仪为一种光学系膜厚测量装置,这个装置的特点是可以高精度测量1nm一下的极薄膜,也适合测量玻璃等透明基板上的薄膜。ME-210-T 活用了本公司*的偏光Senor 技术,将不能变为可能,以往的技术是无法测量0.5mm厚的玻璃基板,在这项技术下,可进行极薄膜的高精度测量,举例来说显示器用的ITO膜或配向膜的评估,也可运用ME-210-T轻松达成。
  • PA-110-t晶圆应力双折射测量仪

    更新时间:2024-09-03

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    晶圆应力双折射测量仪PA-110-T,Z大可测8英寸Wafer、蓝宝石、SiC晶圆等结晶缺陷的评估,蓝宝石或SiC等透明晶圆的结晶缺陷,会直接影响到产品的性能,所以缺陷的检测和管理是制造过程中不可欠缺的重要环节,目前为止,产线上的缺陷管理,多是使用偏光片以目视方式进行缺陷检测,但是这样的检查方式,因无法将缺陷量化,当各批量间产生变动或者缺陷密度缓慢增加时,就无法以目视检查的方式正确找出缺陷。
  • WPA-200应力双折射测量系统

    更新时间:2024-09-03

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    应力双折射测量系统WPA系列可测量相位差高达3500nm,适合PC高分子材料,是Photonic lattic公司以其光子晶体制造技术开发的产品,*的测量技术使其成为*的光学测量产品。该产品在测量过程中可以对视野范围内样品一次测量,全面掌握应力分布。WPA-200型更是市场上的万能机器,适合用来测量光学薄膜或透明树脂。量化测量结果,二维图表可以更直观的读取数据。
  • WPA-micro相位差测量仪

    更新时间:2024-09-03

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    显微镜型相位差测量仪仪WPA-micro操作简单,测量速度可以快到3秒,采用CCD Camera,视野范围内可一次测量,测量范围广。测量数据是二维分布图像,可以更直观的读取数据。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单,不含旋转光学滤片的机构。
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